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光刻技术

• 突破EUV掩模修复的极限:使用下一代电子束掩模修复工具解决10纳米以下的缺陷

  发布于2021年12月7日

• 国际设备和系统光刻路线图

  出版于2021年11月19日

• 高na EUVL:光刻技术的下一个重要步骤

  发布于2021年10月5日

• 逆光刻技术:30年从概念到实用，全芯片现实

  2021年10月1日发布

• 超大曝光场，高分辨率光刻技术，实现新一代面板级先进封装

  发布于2021年8月5日

• 裁剪空间熵在EUV聚焦光束用于多光谱印刷

  出版于2021年7月27日

• EUV光刻底层优化方法

  出版于2021年7月21日

• 通过湿化学功能化改善EUV Si硬掩膜性能

  发布于2021年5月20日

• 用于高温工艺的平面化自旋碳材料的研制

  2020年8月20日发布

• 用于沟槽和通孔阵列的超级平面化材料

  2020年5月21日发布
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