光掩模的检查和维修是大规模采用的首要任务。
多波束掩模写入器(mbmw)和gpu加速曲线ILT使今天的曲线掩模成为可能。尽管工艺窗口的改进带来了好处，但曲线掩模的采用是缓慢的。eBeam Initiative在2021年调查的行业知名人士将掩模检测和基础设施列为采用的最大障碍，如图1所示。然而，只有4%的人表示这些障碍是不可逾越的，71%的人表示口罩商店可以处理有限数量的曲线口罩。这6分钟的视频，由D2S的Aki Fujimura主持，概述了m宝马在采用曲线掩模方面的重要性，并讨论了一些障碍。
Synopsys公司的汤姆·塞西尔(Tom Cecil)认为，有很多方法可以改善制造链，从而制造出更多的曲线掩模。特别是，他认为有很多潜在的改进可以减少数据量。在回顾图1所示的调查结果时，Tom认为它们看起来比几年前的EUV相比更有前景。
图1:根据eBeam Initiative Luminaries，采用曲线掩模的障碍是可以克服的调查从2021年7月开始。
Photronics的Chris Progler同意调查结果，认为掩模检测是曲线掩模大规模采用的首要任务。他把掩模修复放在同一个桶里。Chris预测将会迁移到基于图像的表征和配置，以实现曲线掩模的采用。虽然要实现大规模采用还存在一些障碍，但Chris表示，目前的口罩制造商可以控制有限数量的曲线掩模。
这就完成了今年eBeam Initiative SPIE掩模技术虚拟活动的博客系列。感谢D2S的Aki Fujimura, Synopsys的Tom Cecil, Photronics的Chris Progler和Mycronic的Mikael Wahlsten提供了关于2021年eBeam计划的发光器件的见解调查在视频小组讨论中。您可以观看整个82分钟的面板视频，涵盖掩模市场增长、EUV掩模和深度学习等其他主题在这里．
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
留下回复