标签:eBeam

曲线光掩模可以今天
通过简•威利斯- 4月21日,2022 -评论:0

多波束面具作家(MBMWs)和GPU-accelerated曲线ILT今天使曲线光掩模制作。尽管改进过程的好处窗口,采用曲线光掩模是缓慢的。行业名人eBeam倡议在2021年调查的排名光掩模检验和基础设施障碍采用顶部,如图1所示。然而只有4%的人说b…»阅读更多

调查:2020 eBeam计划年度调查的结果
通过eBeam倡议- 7月21日,2021 -评论:0

阿基》的首席执行官d2,公司提出了“eBeam倡议的年度调查的结果在光掩模”日本光掩模2021在2021年4月。调查说COVID面具总收入净中立的业务影响。到2021年,24%正vs 20%负COVID-related业务预测。74%同意光化性检查EUV HVM到2023年,和更多的结果。点击这里阅读更多。»阅读更多

深度学习(DL)应用在光掩模半导体晶圆制造
通过eBeam倡议——3月17日,2021 -评论:0

调查:2021深度学习eBeam计划成员的应用程序列表的列表当前深度学习的努力被用于晶圆半导体制造的光掩模。例子来自ASML, d2,弗劳恩霍夫ipm,日立高科技公司,imec,西门子工业软件,公司,西门子EDA,意法半导体,TASMIT。发表的eBeam倡议Membe……»阅读更多

调查:eBeam倡议名人(以前的看法)调查结果
通过eBeam倡议——11月18日,2020 -评论:0

调查了77名业界名人在42个不同的公司在2020年7月净说中性COVID-19业务影响,到2021年,积极vs 20% - 24%的预测。点击这里查看调查结果。»阅读更多

2019 - 2020面具制造商调查结果
通过eBeam倡议10月- 21,2020 -评论:0

2019 - 2020年的调查结果面具制造商的调查eBeam倡议。•多波束和EUV趋势变得可见•558834面具由10个不同的公司比去年•面具用多波束面具作家翻了一倍多•EUV掩模产量报告•MPC使用量增加91%前缘节点点击这里查看演示。»阅读更多

调查:2019 eBeam主动感知调查结果
通过eBeam倡议9月- 16,2020 -评论:0

2020年eBeam主动感知调查结果,现在叫名人的调查,将从9月22日:与此同时,这是第八届年度感知调查- 2019(7月)。68名人42个不同的公司参与。一些最突出的结果:深度学习影响预测到2020年:76%的受访者说有些很莱克阀门…»阅读更多

调查:2019 eBeam倡议面具制造商的调查结果
通过eBeam倡议1月- 22,2020 -评论:0

2019年,eBeam倡议的多波束面罩调查报告首次•599536年报告的11家公司2789年•EUV掩•面具平均周转时间(乙)= 7海里是11天。点击这里查看调查结果。»阅读更多

EUV年度感知调查- 2019
通过eBeam倡议- 9月18日,2019 -评论:0

7月8日年度感知调查- 2019()68年在42个不同公司对使用的EUV名人。信心EUV居高不下•2020年底73%预测HVM•前景是积极的光化性检验和薄膜点击这里查看调查幻灯片。»阅读更多

快速本地注册测量高效电子束作家资格和修正
通过心理契约- 09年4月,2019 -评论:0

亨德里克·Steigerwald由Klaus-Dieter Roeth, Runyuan汉,奥利弗疼痛,弗兰克Laske(德国KLA-Tencor三重GmbH)文摘面具数据给出了证明当地登记错误,可以与写作的最先进的电子束作家和多程策略,可能导致系统设备登记错误而接近2 nm设计。毛……»阅读更多

2018年eBeam主动感知调查结果
通过eBeam倡议12月- 14,2018 -评论:0

EUV信心和多波束居高不下在第七届年度感知调查- 2018(7月)。EUV观念仍然是积极的。82%的受访者预测EUV HVM由2021年年底。只有1%的人预测EUV将永远不会发生。信心又高EUV光刻大批量制造和期望光化性面具检查EUV周围继续增长。在娘家姓的看法……»阅读更多

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