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标签:nanoimprint

生产时间:11月2日
通过马克LaPedus- 2021年11月2日-评论:0

《微/纳米图案、材料和计量学杂志》(JM3)发表了一篇论文，概述了光刻路线图和未来15年的各种挑战。这篇被称为“设备和系统光刻路线图的国际路线图”的论文预测，极紫外(EUV)光刻和下一代版本将仍然是最重要的。»阅读更多

多波束掩模书写终于成熟了
通过马克LaPedus- 2018年11月15日-评论:0

IMS纳米制造的首席执行官Elmar Platzgummer与Semiconductor Engineering坐下来讨论掩模和掩模写入趋势。IMS是英特尔的子公司，是用于掩模生产的多光束电子束系统的供应商。以下是那次谈话的节选。SE:多年来，掩模制造商一直在使用单束电子束工具在…»阅读更多

更多光刻/掩模挑战(第三部分)
通过马克LaPedus- 2018年5月16日-意见

《半导体工程》杂志与高级制版部门主管Gregory McIntyre坐下来讨论光刻和掩模技术[getentity id="22217" e_name="Imec"];[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"]高级研究员兼技术研究高级主管Harry Levinson;Regina Freed， [getentity id="…»阅读更多

正在出现新的模式选项
通过马克LaPedus- 2018年4月19日-评论

随着向10/7nm及以上新器件的转变，几家晶圆厂工具供应商正在推出下一波自对准制模技术。应用材料、Lam Research和TEL正在开发基于各种新方法的自对准技术。最新的方法包括多色材料方案的自对齐图案技术，这是为我们设计的…»阅读更多

更多光刻/掩模挑战(下)
通过马克LaPedus- 2018年4月17日-评论:3

《半导体工程》杂志与高级制版部门主管Gregory McIntyre坐下来讨论光刻和掩模技术[getentity id="22217" e_name="Imec"];[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"]高级研究员兼技术研究高级主管Harry Levinson;Regina Freed， [getentity id="…»阅读更多

Nanoimprint Litho怎么了?
通过马克LaPedus- 2018年3月29日-评论:4

纳米压印光刻技术(NIL)在市场新应用的爆炸中重新出现。佳能，EV集团，Nanonex, Suss和其他公司继续为一系列市场开发和运送NIL系统。NIL不同于传统的光刻，类似于一个冲压过程。最初，光刻系统根据预先定义的设计在模板上形成图案。然后，一个分离…»阅读更多

更小、更快、更便宜——但不同
通过埃德·斯珀林- 2018年3月22日-评论:0

“更小、更快、更便宜”的老口号已经从芯片层面转移到了电子系统层面，这引发了一些有趣的问题，即真正的价值是在哪里产生的。更小的登机口尺寸、线路宽度和空间，至少在未来十年将继续保持几乎直线。在纳米尺度上使用E打印三维特征的能力…»阅读更多

调查:EUV前景乐观
通过马克LaPedus- 2017年9月11日-评论

根据eBeam Initiative发布的两项新调查，市场对极紫外(EUV)光刻技术的乐观情绪正在增长，该调查还揭示了一些关于掩模写入工具和其他掩模技术的新数据。在一项来自[getentity id="22818" e_name="eBeam Initiative"]的调查中，受访者透露，他们比其他人更乐观。»阅读更多

在光刻和面具内部
通过马克LaPedus- 2017年5月1日-评论

《半导体工程》杂志在[getentity id="22217" comment="IMEC"]与高级制版部门主管Gregory McIntyre坐下来讨论光刻和掩模技术;[getentity id="22819" comment="GlobalFoundries"]高级研究员兼技术研究高级主管Harry Levinson;David Fried， [getentity id="22210" e_name="Cov…»阅读更多

回顾2016年
通过布莱恩•贝利- 2016年12月22日-意见:0

任何人都能做出预测，有时预测越古怪，就越受关注。但到了年底，一些人达到了目标，而另一些人可能偏离了目标。许多人只是根据当前的趋势轨迹进行预测，而另一些人则寻找未来可能出现的潜在不连续性。半导体工程检查所做的预测…»阅读更多

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