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一周回顾:制造,测试


TEL计划将其领先的涂布机/显影系统运送到Imec-ASML联合研究实验室,该实验室正在研究高na极紫外(EUV)光刻技术。该设备将与ASML的下一代高na EUV光刻系统EXE:5000集成。0.55数值孔径(NA)工具预计于2023年投入使用。今天的EUV正在生产中,但是……»阅读更多

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