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标签:光掩模

多波束掩模编写器是游戏规则的改变者
通过简•威利斯- 2022年12月22日-意见:0

eBeam Initiative在2022年第11次年度灯具调查中报告了对多光束掩模写入器的强劲采购预测，从而实现了EUV和曲线掩模的增长。在9月下旬与SPIE掩模技术会议同时举行的活动中，专家小组讨论了曲线掩模采用的剩余障碍。行业名人代表44家公司…»阅读更多

光掩模密度的增加及其对EDA的影响
通过埃德·斯珀林- 2022年12月13日-意见:0

在掩模上打印曲线形状的能力对半导体设计有很大的影响。D2S首席执行官Aki Fujimura解释了为什么掩模规则检查一直受到复杂设计规则的约束，以及为什么曲线形状对于降低边际和简化芯片设计过程非常重要。»阅读更多

高na EUV使EUV掩模的未来更加复杂
通过简•威利斯- 2022年11月17日-评论:0

eBeam Initiative在2022年进行的第11次年度灯具调查报告称，EUV推动了半导体掩模行业的增长，而专家小组在9月底与SPIE掩模技术会议同时举行的活动中引用了转向高na EUV的一些复杂性。代表来自整个半导体生态系统的44家公司的行业名人…»阅读更多

为什么计算的变化会推动掩模的变化
通过埃德·斯珀林- 2022年10月18日-评论:0

D2S首席执行官Aki Fujimura与Semiconductor Engineering讨论了基于芯片密度增加的计算的巨大改进，以及为什么在掩模上打印曼哈顿形状不再足以每次都打印具有可预测可靠性的高性能器件。他解释了为什么EDA物理设计中的不连续为打印曲线形状打开了大门…»阅读更多

用于EUV的衰减相移掩模(attPSM) (Fraunhofer IISB)
通过技术文件链接- 2022年7月8日-评论:0

新的研究论文题为“衰减相移掩模:极紫外光刻的通配符分辨率增强?”，”来自弗劳恩霍夫研究所für集成系统和Bauelementetechnologie IISB(德国)的研究人员。目的:“我们回顾了已发表的用于EUV的衰减相移掩模(attPSM)的研究，特别强调建模和对EUV的基本理解。»阅读更多

热爱戏剧和面具制作
通过简•威利斯- 2022年7月5日-评论:0

自13年前eBeam Initiative成立以来，Naoya Hayashi一直是我们的朋友和重要贡献者。我们只是他在DNP 45年的职业生涯中所接受和支持的众多兴趣之一。现在轮到我们拥抱他，感谢他在今年6月退休后，作为DNP的第一位研究员，追求他的下一个篇章。阿基富士山……»阅读更多

面具景观的变化
通过简•威利斯- 2022年5月19日-意见:0

半导体掩模在经历了多年相对较小的变化之后，在过去几年中经历了一些重大的技术变化。多束掩模写入器和极紫外(EUV)光刻等新技术是进入大批量生产的重大突破。与这些技术相关的一个新趋势是在掩模上使用曲线特征。阿基…»阅读更多

gpu在半导体制造中的应用
通过埃德·斯珀林- 2022年4月25日-意见:0

大量的模拟和曲线形状迫使掩模行业重新思考哪种类型的芯片效果最好。D2S首席执行官Aki Fujimura谈到了当掩模上打印的形状更接近实际打印的形状时会发生什么，gpu如何用于单指令/多数据(SIMD)操作中的cpu加速，以及像素数据与其他数据不同的原因。»阅读更多

光掩模在成熟节点出现短缺
通过马克LaPedus- 2022年4月21日-意见:2

成熟节点对芯片的需求激增，加上这些几何形状的光掩模制造设备老化，正在引起整个供应链的严重担忧。这些问题最近才开始浮出水面，但对于对芯片生产至关重要的掩模来说，这些问题尤其令人担忧。28nm及以上掩模的制造能力尤其紧张，这推动了…»阅读更多

调查:2022年深度学习应用
通过eBeam倡议- 2022年3月16日-意见:0

eBeam成员在掩模到晶圆半导体制造领域的深度学习项目和产品的2022年成员名单。参与项目的公司包括:优势科技、阿斯麦、佳能、ea - leti、D2S、夫琅和费IPMS、日立高科技公司、imec、NuFlare科技、西门子工业软件公司;西门子EDA，意法半导体和TASMIT。点击这里查看su…»阅读更多

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